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　　⑻ 四氯化硅氫化工序

　　經氯硅烷分離提純工序精制的四氯化硅，送入本工序的四氯化硅汽化器，被熱水加熱汽化。從氫氣制備與凈化工序送來的氫氣和從還原尾氣干法分離工序來的多余氫氣在氫氣緩沖罐混合后，也通入汽化器內，與四氯化硅蒸汽形成一定比例的混合氣體。從四氯化硅汽化器來的四氯化硅與氫氣的混合氣體，送入氫化爐內。在氫化爐內通電的熾熱電極表面附近，發(fā)生四氯化硅的氫化反應，生成三氯氫硅，同時生成氯化氫。出氫化爐的含有三氯氫硅、氯化氫和未反應的四氯化硅、氫氣的混合氣體，送往氫化氣干法分離工序。氫化爐的爐筒夾套通入熱水，以移除爐內熾熱電極向爐筒內壁輻射的熱量，維持爐筒內壁的

　　溫度。出爐筒夾套的高溫熱水送往熱能回收工序，經廢熱鍋爐生產水蒸汽而降溫后，循環(huán)回本工序各氫化爐夾套使用。

　�、� 氫化氣干法分離工序

　　從四氯化硅氫化工序來的氫化氣經此工序被分離成氯硅烷液體、氫氣和氯化氫氣體，分別循環(huán)回裝置使用。氫化氣干法分離的原理和流程與三氯氫硅合成氣干法分離工序十分類似。從變溫變壓吸附器

　　出口得到的高純度氫氣，流經氫氣緩沖罐后，返回四氯化硅氫化工序參與四氯化硅的氫化反應；吸附再生的廢氣送往廢氣處理工序進行處理；從氯化氫解析塔頂部得到提純的氯化氫氣體，送往放置于三氯氫硅合成工序的循環(huán)氯化氫緩沖罐；從氯化氫解析塔底部引出的多余的氯硅烷液體（即從氫化氣中分離出的氯硅烷），送入氯硅烷貯存工序的氫化氯硅烷貯槽。

　�、� 氯硅烷貯存工序

　　本工序設置以下貯槽：100m3 氯硅烷貯槽、100m3 工業(yè)級三氯氫硅貯槽、100m3 工業(yè)級四氯化硅貯槽、100 m3 氯硅烷緊急排放槽等。從合成氣干法分離工序、還原尾氣干法分離工序、氫化氣干法分離工序分離得到的氯硅烷液體，分別送入原料、還原、氫化氯硅烷貯槽，然后氯硅烷液體分別作為原料送至氯硅烷分離提純工序的不同精餾塔。在氯硅烷分離提純工序3 級精餾塔頂部得到的三氯氫硅、二氯二氫硅的混合液體，在4、5級精餾塔底得到的三氯氫硅液體，及在6、8、10 級精餾塔底得到的三氯氫硅液體，送至工業(yè)級三氯氫硅貯槽，液體在槽內混合后作為工業(yè)級三氯氫硅產品外售。

　�、� 硅芯制備工序

　　采用區(qū)熔爐拉制與切割并用的技術，加工制備還原爐初始生產時需安裝于爐內的導電硅芯。硅芯制備過程中，需要用氫氟酸和硝酸對硅芯進行腐蝕處理，再用超純水洗凈硅芯，然后對硅芯進行干燥。酸腐蝕處理過程中會有氟化氫和氮氧化物氣體逸出至空氣中，故用風機通過罩于酸腐蝕處理槽上方的風罩抽吸含氟化氫和氮氧化物的空氣，然后將該氣體送往廢氣處理裝置進行處理，達標排放。

　�、挟a品整理工序

　　在還原爐內制得的多晶硅棒被從爐內取下，切斷、破碎成塊狀的多晶硅。用氫氟酸和硝酸對塊狀多晶硅進行腐蝕處理，再用超純水洗凈多晶硅塊，然后對多晶硅塊進行干燥。酸腐蝕處理過程中會有氟化氫和氮氧化物氣體逸出至空氣中，故用風機通過罩于酸腐蝕處理槽上方的風罩抽吸含氟化氫和氮氧化物的空氣，然后將該氣體送往廢氣處理裝置進行處理，達標排放。最后經檢測達到規(guī)定的質量指標的塊狀多晶硅產品送去包裝。