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光伏百科：硅片清洗及原理

　　硅片的清洗很重要，它影響電池的轉(zhuǎn)換效率，如器件的性能中反向電流迅速加大及器件失效等。因此硅片的清洗很重要，下面主要介紹清洗的作用和清洗的原理。

　　 清洗的作用

　　1.在太陽能材料制備過程中，在硅表面涂有一層具有良好性能的減反射薄膜，有害的雜質(zhì)離子進(jìn)入二氧化硅層，會(huì)降低絕緣性能，清洗后絕緣性能會(huì)更好。

　　2.在等離子邊緣腐蝕中，如果有油污、水氣、灰塵和其它雜質(zhì)存在，會(huì)影響器件的質(zhì)量，清洗后質(zhì)量大大提高。

　　3.硅片中雜質(zhì)離子會(huì)影響P-N 結(jié)的性能，引起P-N 結(jié)的擊穿電壓降低和表面漏電，影響P-N 結(jié)的性能。

　　4.在硅片外延工藝中，雜質(zhì)的存在會(huì)影響硅片的電阻率不穩(wěn)定。

　　清洗的原理

　　要了解清洗的原理，首先必須了解雜質(zhì)的類型，雜質(zhì)分為三類：一類是分子型雜質(zhì)，包括加工中的一些有機(jī)物；二類是離子型雜質(zhì)，包括腐蝕過程中的鈉離子、氯離子、氟離子等；三是原子型雜質(zhì)，如金、鐵、銅和鉻等一些重金屬雜質(zhì)。目前最常用的清洗方法有：化學(xué)清洗法、超聲清洗法和真空高溫處理法。

　　1.目前的化學(xué)清洗步驟有兩種：

　�。�1）有機(jī)溶劑（甲苯、丙酮、酒精等）→去離子水→無機(jī)酸（鹽酸、硫酸、硝酸、王水）→氫氟酸→去離子水

　�。�2）堿性過氧化氫溶液→去離子水→酸性過氧化氫溶液→去離子水

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